导读
气相二氧化硅因其纳米级粒径、高比表面积和优异的补强性能,成为化妆品、涂料、医药等行业的关键添加剂。然而,其高硬度、易团聚的特性,使得传统分散工艺难以实现理想的纳米级均匀分散。近年来,高压均质技术的突破为这一难题提供了创新解决方案。
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如何让气相二氧化硅“焕然一新”
初始状态下,这些微小的颗粒极易在溶液中形成肉眼可见的絮凝团,整体呈现不均匀状态,极大限制了其应用效果。
当样品流经高压均质机核心处理腔的瞬间,强大的能量场被精准施加。物料在极端压力驱动下,以极高速度通过特殊设计的均质阀隙。经过高压均质处理后,溶液状态由不均一、易沉降变得清透稳定;气相二氧化硅颗粒实现了高度解聚,均匀、细腻地分散于液相中,均粒径降到了120 nm左右。
气相二氧化硅处理前后对比图
以上数据来自ATS复杂制剂中心
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高压均质机的技术优势
与传统分散设备相比,ATS高压均质机在纳米材料加工中展现出不可替代的优势:
ATS是全国领先的微纳米化解决方案供应商,专注高压均质技术20多年,致力于为生物医药、化妆品、食品、纳米材料等行业提供从研发到量产的全链路纳米化装备与服务。

欢迎致电400-998-7088了解更多气相二氧化硅分散工艺和设备相关信息,期待您的联系。